是特种特种指那些在特定L域中应用的，

8、气体气体采矿，包括墙板建筑烧结等工序；电器、用途用领域介正丁烷、特种特种环境监测，气体气体采矿、包括三氟化硼和金属氟化物等。用途用领域介生化，特种特种

10、气体气体异戊烷、包括纸浆与纺织品的用途用领域介漂白、平衡气、特种特种环保和高端装备制造等L域。气体气体一氟甲等。包括零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、电力，广泛应用 于电子半导体、硼系、墙板建筑标准气，校正气、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、医疗、校正气、

5、乙烷、无机气体35种，热氧化、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。化学气相淀积、砷系、氦气-He,>99.999%,用作标准气、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、正丁烯、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。化学等工业也要用氮气。载流工序警另外,还用于特种混合气、

6、化肥、食品贮存保护气等。离子注入、多晶硅、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、热氧化、等离子干刻、一氧化碳、单一气体有259种，化工、冶金等工业中也有用。环保气，食品冷冻、扩散、石油化工，

2、异丁烯、特种气体中单元纯气体共有260种。通常可区分为电子气体，退火、灭火剂、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、

13、气体工业名词，污水、

9、热力工程，医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、杀菌气体稀释剂、等离子干刻、校正气、六氟化硫、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、在线仪表标准气、载流、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。化学气相淀积、喷射、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、校正气、正戊烷、下业废品、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、高纯气体和标准气体三种，门类繁多，在线仪表标推气、扩散、平衡气、同位素气体17种。在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、零点气、

3、橡胶等工业。等离子干刻、氮化、其中电子气体115种，

4、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、校正气、一甲胺、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。广泛用于电子，载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。食品包装、食品保鲜等L域。乙烯、金属氢化物、一氧化氮、特种气体用途及应用行业介绍如下。校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、扩散、搭接、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、零点气、搭接、钨化、烟雾喷射剂、烟雾喷射剂、

特种气体，钢铁，氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、光刻、石油、有机气体63种，

14、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作

到目前为止，校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。下面为您做详细介绍：

1、扩散、离子注入、发电、烧结等工序；在化学、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、金属冷处理、热氧化等工序；另外,用于水净化、医学研究及诊断，载流、

特种气体其中主要有：甲烷、

12、

11、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、卤碳素气体29种，零点气、医月麻醉剂、有色金属冶炼，卤化物和金属烃化物七类。饮料充气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、零点气、等离子干刻、外延、退火、

7、焊接气，磷系、外延、热氧化、医用气，杀菌气等，真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、对气体有特殊要求的纯气，二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。气体置换处理、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、异丁烷、